ステージ装置及び露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡部温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-025231
公開番号（公開出願番号）：特開2003-229350
出願日： 2002年02月01日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：

【要約】【課題】組み立て時の変形、あるいは、ステージ装置の配置されたチャンバーの真空排気に伴う変形を抑制できるステージ装置及び露光装置を提供する。【解決手段】本発明のステージ装置は、ステージベース24Aとチャンバー底113Aとの間に球面静圧軸受け200が配置されている。この球面静圧軸受け200によって、ステージベース24Aやチャンバー24に働く強制的な捩り力を緩和することができる。そのため、組み立て時の変形や真空排気に伴う露光装置の真空チャンバーやステージ装置の変形を抑制できる。

請求項（抜粋）：

移動・位置決めされる可動子と、該可動子を案内するガイド機構と、該ガイド機構を搭載するステージベースと、を含むステージ装置であって、前記ステージベースと、前記装置を支える支持構造体との間に球面静圧軸受けが配置されていることを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , H01J 37/20 , H01L 21/68

FI (6件)：

G03F 9/00 H , H01J 37/20 D , H01L 21/68 K , H01L 21/30 503 A , H01L 21/30 531 A , H01L 21/30 541 L

Fターム (24件)：

5C001AA01 , 5C001AA02 , 5C001CC06 , 5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031HA01 , 5F031HA53 , 5F031HA55 , 5F031HA57 , 5F031JA02 , 5F031JA22 , 5F031LA03 , 5F031MA27 , 5F031NA05 , 5F031NA07 , 5F031PA09 , 5F031PA13 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC18 , 5F046GA11 , 5F046GA12 , 5F056EA14 , 5F056EA16

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭59-002276
流体リニアガイド装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-098166 出願人：日本精工株式会社
特開昭59-002276

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