真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266245
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093791
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】異常状況発生時の真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法を提供する。【解決手段】各ウエハに対して一連の異なるプロセス処理を行う複数のプロセス処理装置2-1,2,3,4と、前記ウェハの搬送を行う搬送処理装置1と、前記各プロセス処理装置3及び搬送処理装置を制御する制御装置とで構成された真空処理装置の運転方法またはウエハの処理方法であって、各々前記一連のプロセス処理を行う複数のプロセス処理装置を含む少なくとも2組のウエハの処理経路を有する真空処理装置の運転方法において、前記各プロセス処理を行うための各組の各プロセス処理装置が運転有効又は運転無効かの状態判断を行い、該判断で運転無効のプロセス処理装置のみを切り放し、運転有効のプロセス処理装置を使用して、前記一連のプロセス処理を行うための前記処理経路を再構築し、該運転有効なプロセス処理装置のみを使って前記ウェハの処理を行う。

請求項（抜粋）：

各ウエハに対して一連の異なるプロセス処理を行う複数のプロセス処理装置と、前記ウェハの搬送を行う搬送処理装置と、前記各プロセス処理装置及び搬送処理装置を制御する制御装置とで構成された真空処理装置の運転方法であって、各々前記一連のプロセス処理を行う複数のプロセス処理装置を含む少なくとも2組のウエハの処理経路を有する真空処理装置の運転方法において、前記各プロセス処理を行うための各組の各プロセス処理装置が運転有効又は運転無効かの状態判断を行い、該判断で運転無効のプロセス処理装置のみを切り放し、運転有効のプロセス処理装置を使用して、前記一連のプロセス処理を行うための前記処理経路を再構築し、該運転有効なプロセス処理装置のみを使って前記ウェハの処理を行うことを特徴とする真空処理装置の運転方法。

IPC (4件)：

H01L 21/02 , B01J 3/00 , H01L 21/68 , G05B 23/02 302

FI (4件)：

H01L 21/02 Z , B01J 3/00 J , H01L 21/68 A , G05B 23/02 302 Y

Fターム (15件)：

5F031CA02 , 5F031MA04 , 5F031MA06 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031PA04 , 5F031PA05 , 5H223AA05 , 5H223CC08 , 5H223DD03 , 5H223EE06 , 9A001BB05 , 9A001HH34 , 9A001JJ44 , 9A001KK54

引用特許：

審査官引用 (1件)

マルチチャンバ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-056968 出願人：株式会社日立製作所

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