特許

J-GLOBAL ID：200903022870561627

投影露光装置

発明者： 長山 匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067220
公開番号（公開出願番号）：特開平9-237754
出願日： 1996年02月28日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系を介して形成されるマスクパターンの空間像の強度分布を随時検出する機能を備えた投影露光装置。【解決手段】 投影光学系を介してナイフエッジ部材上に形成されたマスクパターンの空間一次像からの光を集光してマスクパターンの空間二次像を形成するための集光光学系と、集光光学系の光路中に配置され、マスクパターンの空間一次像からの光を拡散させるための拡散光学素子と、集光光学系を介して形成されたマスクパターンの空間二次像を検出するための検出手段とを備えている。そして、マスクパターンの空間一次像とナイフエッジ部材との相対位置情報と検出手段の出力とに基づいて、マスクパターンの空間一次像の強度分布を検出する。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクに照明光を照射するための照明光学系と、前記パターンの像を感光基板上に投影するための投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明光を透過する透過部と前記照明光を遮光する遮光部との境界線から形成されたナイフエッジを有するナイフエッジ部材と、前記投影光学系を介して前記ナイフエッジ部材上に形成された前記マスクパターンの空間一次像からの光を集光して前記マスクパターンの空間二次像を形成するための集光光学系と、前記集光光学系の光路中に配置され、前記マスクパターンの空間一次像からの光を拡散させるための拡散光学素子と、前記集光光学系を介して形成された前記マスクパターンの空間二次像を検出するための検出手段と、前記マスクパターンの空間一次像と前記ナイフエッジ部材とを所定の方向に沿って相対移動させるための相対移動手段とを備え、前記マスクパターンの空間一次像と前記ナイフエッジ部材との相対位置情報と前記検出手段の出力とに基づいて、前記マスクパターンの空間一次像の強度分布を検出することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-107423   出願人：株式会社ニコン
• エキシマレーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-352806   出願人：株式会社小松製作所
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-237162   出願人：株式会社ニコン