特許
J-GLOBAL ID：200903022949656755

交互ストライプ電極およびその製造方法

発明者：
今井 真二

今井 真二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-017941
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005377
出願日： 2002年01月28日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 所定の電磁波を透過する第1ストライプ電極と、該電磁波を遮光する多数の線状電極からなる第2ストライプ電極とが交互に略平行に配列されてなる交互ストライプ電極を1枚のストライプ電極用マスクから自己整合的に(マスク合わせなしに)製造する。【解決手段】 支持体10の上面に第2ストライプ電極12の各線状電極12aを形成し、支持体10の上面および第2ストライプ電極12の上面に透明導電膜16を一様に形成し、透明導電膜16の上面にレジスト膜18を一様に形成し、紫外線を支持体10の下面から露光し、この紫外線が第2ストライプ電極12には遮光され透明導電膜18は透過してレジスト膜18が感光されることによりレジストパターン18aを形成し、レジストパターン18aに応じて透明導電膜16をエッチングすることにより第2ストライプ電極12と透明導電膜16を分離して第1ストライプ電極を形成する。
請求項（抜粋）：
所定の電磁波を透過する支持体の上面に、前記所定の電磁波を透過する多数の線状電極からなる第1ストライプ電極と、前記所定の電磁波を遮光する多数の線状電極からなる第2ストライプ電極とを有し、前記第1ストライプ電極と前記第2ストライプ電極とが交互に略平行に配列されてなる交互ストライプ電極を形成する交互ストライプ電極の製造方法であって、前記支持体の上面に前記第2ストライプ電極を形成し、前記支持体の上面および前記第2ストライプ電極の上面に透明導電膜を一様に形成し、該透明導電膜の上面に前記所定の電磁波に対してネガ型のレジスト膜を一様に形成し、前記所定の電磁波を前記支持体の下面から露光し、この所定の電磁波が前記第2ストライプ電極には遮光され前記透明導電膜は透過して前記レジスト膜が感光されることにより、前記第2ストライプ電極に応じたレジストパターンを形成し、該レジストパターンに応じて前記透明導電膜をエッチングすることにより前記第2ストライプ電極と前記透明導電膜を分離して前記第1ストライプ電極を形成することを特徴とする交互ストライプ電極製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01B 13/00 503
FI (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01B 13/00 503 D
Fターム (5件)：
2H097CA12 ,  2H097FA02 ,  2H097GA45 ,  2H097LA20 ,  5G323CA01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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