特許
J-GLOBAL ID:200903023010047299

トロイダル低電場反応性ガスソース

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-505688
公開番号(公開出願番号):特表2002-507315
出願日: 1998年06月23日
公開日(公表日): 2002年03月05日
要約:
【要約】ガスを解離する装置は、金属材料から形成され得るプラズマチャンバと、プラズマチャンバの一部を取り囲む磁気コアおよび1次巻線を有する変圧器とを含む。装置はさらに、電圧源に直接接続されており、変圧器の1次巻線に接続された出力を有する、1以上のスイッチング半導体装置を含む。1以上のスイッチング半導体装置は、チャンバ内にプラズマを形成するポテンシャルを誘導する、1次巻線内の電流を駆動し、そのことが変圧器の2次回路を完成させる。
請求項(抜粋):
ガスを解離する装置であって、 a)プラズマチャンバと、 b)該プラズマチャンバの一部を取り囲む磁気コアと、1次巻線とを有する変圧器と、 c)電圧源に直接接続され、該1次巻線に接続された出力を有する、1以上のスイッチング半導体装置と、を含み、 該1以上のスイッチング半導体装置が、該1次巻線内の電流を駆動し、該電流が、該チャンバ内にプラズマを形成するポテンシャルを誘導し、そのことが該変圧器の2次回路を完成させる、装置。
IPC (5件):
H05H 1/46 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (7件):
H05H 1/46 R ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/205 L ,  H01L 21/205 B ,  H01L 21/302 B
引用特許:
審査官引用 (13件)
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