特許
J-GLOBAL ID：200903023114988850
半導体製造装置及び大気浸入防止方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-225980
公開番号（公開出願番号）：特開平8-070028
出願日： 1994年08月26日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】ウェーハカセット、ウェーハの搬送効率を上げ生産性を向上させると共にウェーハカセットの搬入搬出過程で大気が半導体製造装置内に浸入すること、装置内でのウェーハの移載時、待機時での自然酸化膜の生成、ウェーハの汚染を防止する。【構成】反応炉にボート9を装入引出しするボートエレベータと、カセットストッカ2と、バッファカセットストッカ3と、ボート9とカセットストッカとの間でウェーハの移載を行うウェーハ移載機4と、外部とカセットストッカ2、バッファカセットストッカ間でウェーハカセットの授受を行うカセットローダ1とを具備した半導体製造装置に於いて、筐体内部をカセット室22に仕切りカセット移載機28を設けウェーハカセットの授受を行い得る様構成し、或は更にカセット室を搬送室23とに隣接させ、ウェーハカセット搬送用のゲート弁30を設け、仕切り壁にウェーハ搬送用のゲート弁31を設け、筐体内を小室に仕切る。
請求項（抜粋）：
筐体内に反応炉と、該反応炉にボートを装入引出しするボートエレベータと、カセットストッカと、バッファカセットストッカと、前記ボートとカセットストッカとの間でウェーハの移載を行うウェーハ移載機と、外部と前記カセットストッカ、バッファカセットストッカ間でウェーハカセットの授受を行うカセットローダとを具備した半導体製造装置に於いて、筐体内部を少なくとも前記カセットローダを収納するカセット授受室と、カセットストッカ、バッファカセットストッカを収納するカセット室とに仕切り、各室間の仕切り壁にゲート弁を設け、各室に不活性ガス導入管、排気管を連通したことを特徴とする半導体製造装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/22 511
