特許

J-GLOBAL ID：200903023186583588

透明導電膜およびその製造方法

発明者： 浅野 雅朗 ,  羽音 大作
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 米田 潤三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-209193
公開番号（公開出願番号）：特開平9-031630
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【目的】 脱ガスを生じるような耐熱性にとぼしい基材上に成膜される低抵抗でパターニング特性に優れた透明導電膜と、このような透明導電膜を簡便に形成することができる製造方法を提供する。【構成】 非晶性の下層膜と結晶性の上層膜とを有し、膜厚方向において結晶構造が異なる透明導電膜とし、このような透明導電膜を、耐熱性にとぼしい基材上に下層膜用と上層膜用で異なる組成のターゲット材を用いて成膜するか、あるいは同組成のターゲット材を使用し下層膜形成時の条件と上層膜形成時の条件とを変化させて成膜する。

請求項（抜粋）：

耐熱性にとぼしい基材上に形成され、非晶質性の下層膜と結晶質性の上層膜とを有し、膜厚方向において結晶構造が異なることを特徴とする透明導電膜。

IPC (8件)：

C23C 14/08 ,  B32B 7/02 104 ,  C08J 7/06 ,  C23C 14/34 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 ,  B32B 9/00 ,  H01L 21/203

FI (9件)：

C23C 14/08 D ,  C23C 14/08 N ,  B32B 7/02 104 ,  C08J 7/06 B ,  C23C 14/34 V ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 B ,  B32B 9/00 A ,  H01L 21/203 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-114844
  
• 透明導電膜の成膜装置および成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-118578   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-018073