特許

J-GLOBAL ID：200903023192346938

基板処理装置及びローダ装置及びアンローダ装置

発明者： 西村 徳彦 ,  和田 憲雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-323756
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131372
出願日： 2004年11月08日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】 平流し方式において被処理基板の搬送中に基板上の不要な液を速やかに流し落として処理効率や処理品質を向上させる。【解決手段】 この洗浄プロセス部24は、一定角度に傾斜したコロ112を一定ピッチで並べて傾斜搬送路114を構成し、この傾斜搬送路114上を移動する傾斜姿勢の基板Gに対して紫外線ランプ122、ロールブラシ130、リンスノズル134、エアナイフ136等により紫外線オゾン洗浄、スクラビング洗浄、リンス処理、乾燥処理を順次施すようにしている。スクラビング洗浄やリンス処理では、傾斜姿勢の基板G上から異物や液が重力によって速やかに流し落とされる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

被処理基板を水平な搬送方向と直交する水平線に対して所定角度傾斜した姿勢で搬送路上を搬送する搬送部と、 前記搬送路上の前記基板に対して所望の処理を施す処理部と、 前記搬送路に設定された第1の位置と、前記第1の位置の上方に設定された第2の位置と、前記第1の位置の下方に設定された第3の位置との間で昇降移動可能なリフト部材を有し、前記第2の位置で水平姿勢の前記基板を前記リフト部材の上に載せ、前記第1の位置で前記基板を前記リフト部材から前記搬送路に移し変えるために、前記第2の位置から前記第1の位置まで下降させる間に前記リフト部材上で前記基板の姿勢を水平姿勢から前記所定角度傾斜した姿勢に変換する基板姿勢変換部と を有する基板処理装置。

IPC (6件)：

B65G 49/06 ,  B08B 3/02 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

B65G49/06 Z ,  B08B3/02 C ,  B65G49/07 B ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 562 ,  H01L21/30 572B

Fターム (37件)：

2H088FA10 ,  2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088MA16 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201AB24 ,  3B201BA02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  3B201CD43 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA18 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031GA53 ,  5F031KA02 ,  5F031LA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046LA11 ,  5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 基板乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-273611   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板移送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-145738   出願人：株式会社ディエムエス
• 基板姿勢変更装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-363888   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184717   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板移送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-145738   出願人：株式会社ディエムエス
• 基板姿勢変更装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-363888   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184717   出願人：東京エレクトロン株式会社