光波面形状制御装置および形状測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-219076
公開番号（公開出願番号）：特開平8-082713
出願日： 1994年09月13日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【目的】光の波面形状を空間的に高精度に制御できる光波面形状制御装置を提供する。【構成】光波面形状制御装置は、振幅制御手段10と位相制御手段20を有している。振幅制御手段10は、光軸28の方向に順に配置された第一の偏光子12と第一の液晶素子14と1/2波長板16と第二の偏光子18とで構成されている。また、位相制御手段20は、同じく光軸28の方向に順に配置された第二の液晶素子22と1/4波長板24と第三の偏光子26とで構成されている。液晶素子14と液晶素子22は、同じ画素の配列パターンを有し、それぞれの画素が互いに重なるように配置されており、各画素に通過する光の偏光方向を制御し得る。

請求項（抜粋）：

入射される光の特定の偏光成分を透過する第一の偏光子と、前記第一の偏光子からの光の偏光方向を制御するための二次元配列された多数の画素を持つ第一の液晶素子と、この第一の液晶素子からの光の互いに直交する二つの偏光成分の間にπ/2の位相差を与える1/4波長板と、この1/4波長板からの光の特定の偏光成分を透過する第二の偏光子とを有し、光束断面各部の相対位相を制御する光波面形状制御装置。

IPC (3件)：

G02B 5/30 , G01B 11/24 , G02F 1/1335 510

引用特許：

審査官引用 (15件)

光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-241472 出願人：セイコーエプソン株式会社
光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-279132 出願人：セイコーエプソン株式会社
特開平4-204828

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