特許
J-GLOBAL ID:200903023288475909
基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに洗浄ブラシ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川崎 実夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-382384
公開番号(公開出願番号):特開2002-177898
出願日: 2000年12月15日
公開日(公表日): 2002年06月25日
要約:
【要約】【課題】洗浄液の流通および排出を阻害することなく、基板の各部における洗浄効率の均一化を図る。【解決手段】ウエハWの下面をスクラブ洗浄する下面スクラブ洗浄部材LSは、回転駆動されるベース部82と、このベース部82の取付面61に固定された4個の洗浄ブラシ86とを備えている。4個の洗浄ブラシ86は、ベース部82に放射状に固定されている。洗浄ブラシ86は、回転半径外方側に配置された第1ブラシ部86Aと、回転半径方向内方側に配置された第2ブラシ部86Bとを備えている。第1ブラシ部86Aと第2ブラシ部86Bとの間には、洗浄液の流通および排出を確保するための間隙Dが開けられている。第1ブラシ部86Aは、ウエハWの周端縁を通る軌跡を描いて回転する。第2ブラシ部86Aはそれよりも内側で回転する。
請求項(抜粋):
基板を保持して回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段によって回転されている基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、上記基板保持回転手段によって保持されて回転されている基板の表面に摺接し、この基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄部材と、このスクラブ洗浄部材を回転させるスクラブ洗浄部材回転駆動手段とを含み、上記スクラブ洗浄部材は、基板の周端縁を通る軌跡を描く第1ブラシと、この第1ブラシに対して上記スクラブ洗浄部材の回転半径方向内方側において、上記第1ブラシとの間に洗浄液流通用の間隙を確保して配置された第2ブラシとを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (7件):
B08B 3/02
, B08B 1/04
, B08B 7/04
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 644
, H01L 21/304
FI (7件):
B08B 3/02 B
, B08B 1/04
, B08B 7/04 A
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/304 644 C
, H01L 21/304 644 G
Fターム (23件):
2H088FA21
, 2H088FA24
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H090JB02
, 2H090JC19
, 3B116AA03
, 3B116AB01
, 3B116AB34
, 3B116AB42
, 3B116BA02
, 3B116BA13
, 3B116BB24
, 3B201AA03
, 3B201AB01
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BA02
, 3B201BA13
, 3B201BB24
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201CB25
引用特許:
前のページに戻る