特許

J-GLOBAL ID：200903023305884141

X線反射率測定装置

発明者： 谷 克彦
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-256008
公開番号（公開出願番号）：特開平11-083766
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 基板上に設けられた薄膜等の反射率を測定し、X線反射XAFSによる評価を行うことのできるX線反射率測定装置を提供する。【解決手段】 X線反射率測定装置は、分光器1により単色化されたX線ビームをI0モニター2を通過させた後第1のスリット3で成形し、試料面Sに照射し、反射したX線を第2のスリット5を通過させてI検出器6で検出する。このときにXAFS測定により薄膜を評価するために、X線のエネルギー(=波長)をスキャンさせながら反射率測定を行う。エネルギースキャンとともに試料の全反射臨界角が変化することから、反射率を一定にして精度の高い測定を行うために、X線の入射角を変化させる。図示する例では、試料用ステージ4の傾きをエネルギースキャンに従って変化させ、このときに反射したX線を検出するために検出器6を移動させる。

請求項（抜粋）：

エネルギーをスキャンさせることにより分光したX線を試料に照射する照射光学系と、該試料で反射したX線を検出する検出器とを有し、該検出器の検出結果に基づいて反射率の測定を行うX線反射率測定装置において、前記X線のエネルギースキャンに同期させて前記試料を傾けることにより、該試料へのX線の入射角を変化させる入射角可変手段と、該入射角可変手段が動作することにより出射方向が変化する反射X線を受光するように前記検出器の位置を移動させる検出器移動手段とを有することを特徴とするX線反射率測定装置。

IPC (3件)：

G01N 23/20 ,  G01N 23/06 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/20 ,  G01N 23/06 ,  G21K 1/06 G

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線評価装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-211168   出願人：株式会社リコー
• X線分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-241063   出願人：富士通株式会社