特許
J-GLOBAL ID：200903023309698709

リソグラフィ投影装置およびこれを使ったデバイスの製造方法

発明者：
エリク ロエロフ ロープストラ

エリク ロエロフ ロープストラ について

, 
アントニアス ヨハネス ヨセファス バン ディジセルドンク

アントニアス ヨハネス ヨセファス バン ディジセルドンク について


出願人/特許権者：
エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403605
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351855
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置の放射線の短波長化に伴いその集束および制御には屈折性光学素子よりミラーのような反射性素子が有利であるが、後者は前者より高精度に配置することを要する。それを可能にする改良した位置決めシステムを有する投影装置を提供する。【解決手段】 投影ビームPBの中にあるミラー10の位置を最初に絶対位置センサ41、42を使って測定し、その後相対位置センサ43、44を使って位置の変化を測定する。この測定値に従って、制御器50と駆動手段30によってミラー10の位置を制御する。両方式のセンサを使うことによって、この位置決めシステム20は、ミラー10を冗長な較正または初期化手順なしに正確に配置または安定化し、ミラー10のあらゆる振動を相殺できる。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビーム(PB)を供給するように配置構成された照明システム(IL);マスク(MA)を保持するように配置構成された第1物体テーブル(MT);基板(W)を保持するように配置構成された第2物体テーブル(WT);および前記マスクの被照射部分を前記基板の目標部分(C)上に結像するように配置構成された投影システム(PL)を含む投影装置において、前記照明システムおよび前記投影システムの少なくとも1つが1つ以上の反射性光学素子(10)と該反射性光学素子の1つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段(20)を含む装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G01B 21/00 ,  G01B 21/22 ,  G02B 7/198 ,  G03F 9/00
FI (6件)：
G01B 21/00 A ,  G01B 21/22 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D ,  G02B 7/18 B
Fターム (14件)：
2F069AA01 ,  2F069AA71 ,  2F069BB40 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG59 ,  2F069HH09 ,  2F069PP01 ,  2H043BB05 ,  2H043BC01 ,  5F046CB02 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 半導体露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143962   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開平3-283420
  • 特開平3-022407
審査官引用 (5件)
  • 特開平3-283420
  • 特開平3-283420
  • 半導体露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143962   出願人：株式会社日立製作所
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