特許

J-GLOBAL ID：200903023318110684

ガリウム含有廃水の処理装置

発明者： 松本 章 ,  林 一樹
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-366454
公開番号（公開出願番号）：特開2003-164863
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等から排出されるガリウム含有廃水を処理して、特に廃水量は大きいがガリウム濃度が希薄な廃水中から希少かつ有価金属であるガリウムを高濃度で効率的に回収することができるガリウム含有廃水の処理装置を提供する。【解決手段】ガリウム含有廃水中のガリウムを濃縮する膜分離手段と、膜分離手段の濃縮水が導入され濃縮水中のガリウムを吸着するガリウム吸着手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

請求項（抜粋）：

ガリウム含有廃水中のガリウムを濃縮する膜分離手段と、膜分離手段の濃縮水が導入され濃縮水中のガリウムを吸着するガリウム吸着手段とを有することを特徴とするガリウム含有廃水の処理装置。

IPC (13件)：

C02F 1/28 ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/58 ,  B01D 71/02 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 1/70 ,  C22B 3/24 ,  C22B 7/00 ,  C22B 9/02 ,  C22B 58/00 ,  C22B 30/04

FI (13件)：

C02F 1/28 B ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/58 ,  B01D 71/02 ,  C02F 1/44 E ,  C02F 1/44 ZAB A ,  C02F 1/70 A ,  C22B 7/00 G ,  C22B 9/02 ,  C22B 58/00 ,  C22B 30/04 ,  C22B 3/00 L

Fターム (52件)：

4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KA03 ,  4D006KA52 ,  4D006KA62 ,  4D006KA64 ,  4D006KA72 ,  4D006KB12 ,  4D006KB30 ,  4D006KD02 ,  4D006MA22 ,  4D006MB02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC18 ,  4D006MC54 ,  4D006MC55 ,  4D006MC62 ,  4D006PA02 ,  4D006PB27 ,  4D006PC01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BA17 ,  4D024BA18 ,  4D024BB01 ,  4D024CA01 ,  4D024CA05 ,  4D024DA07 ,  4D024DB01 ,  4D024DB05 ,  4D024DB20 ,  4D024DB22 ,  4D050AA13 ,  4D050AB32 ,  4D050AB33 ,  4D050AB45 ,  4D050AB46 ,  4D050BA04 ,  4D050BA14 ,  4D050BC06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050CA06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA13 ,  4K001AA03 ,  4K001AA11 ,  4K001BA21 ,  4K001DB36 ,  4K001EA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-294491
  
• 希薄被処理液の処理方法およびその処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-050578   出願人：オルガノ株式会社
• 特開昭62-294491
  
• 特開平1-249187