フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-203021
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033960
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】ソルダーレジストに適した感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記成分(A)(a)ジエポキシドのエポキシ基1モルに対して1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量72〜1000のエチレン性不飽和カルボン酸0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和樹脂、(b)カルボキシル基含有ジオール化合物、(c)ジイソシアネート化合物及び(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂、(B)光重合開始剤、及び(C)上記樹脂(A)のカルボキシル基及び/又は水酸基と熱により硬化する硬化剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

下記成分(A)(a)ジエポキシドのエポキシ基1モルに対して1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量72〜1000のエチレン性不飽和カルボン酸0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和樹脂、(b)カルボキシル基含有ジオール化合物、(c)ジイソシアネート化合物、及び(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、水酸基価0〜200mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂、(B)光重合開始剤、及び(C)上記樹脂(A)のカルボキシル基及び/又は水酸基と熱により硬化する硬化剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/027 515 , G03F 7/40 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AA01 , 2H025AA13 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC66 , 2H025BC81 , 2H025BC82 , 2H025BC85 , 2H025BC86 , 2H025BC92 , 2H025CA00 , 2H025CC17 , 2H025FA29 , 2H096AA26 , 2H096BA06 , 2H096BA16 , 2H096EA04 , 2H096GA09 , 2H096HA01

引用特許：

審査官引用 (11件)

光重合性樹脂組成物および硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-227577 出願人：武田薬品工業株式会社
プリント配線フオトレジスト用電着塗料組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-206857 出願人：関西ペイント株式会社
特開昭64-062375

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