特許
J-GLOBAL ID：200903023333534598

光学異方体の製造方法

発明者：
田中 興一

田中 興一 について

, 
川辺 和幸

川辺 和幸 について

, 
江森 洋之

江森 洋之 について


出願人/特許権者：
日本化薬株式会社

日本化薬株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-335808
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154019
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】同一条件、同一方向でラビング処理した基板を用いて、任意の配向方向を有する光学異方体を製造する。【解決手段】基板表面をラビング処理した後、該基板表面上に光学異方体を形成する際に、有機溶剤の種類、混合溶剤の場合にはその比率、及び該光学異方体を構成する化合物を溶解する際の溶液の濃度を選定して調製した光学異方体を構成する化合物の溶液を塗布後、該溶剤を除去することにより光学異方体の配向方向をラビング方向に対して任意の角度に配向させることを特徴とする光学異方体の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板表面をラビング処理した後、該基板表面上に光学異方体を形成する際に、有機溶剤の種類、混合溶剤の場合にはその比率、及び該光学異方体を構成する化合物を溶解する際の溶液の濃度を選定して調製した光学異方体を構成する化合物の溶液を塗布後、該溶剤を除去することにより光学異方体の配向方向をラビング方向に対して任意の角度に配向させることを特徴とする光学異方体の製造方法。
IPC (7件)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/48 ,  C08J 7/04 CEP ,  C08J 7/04 CES ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13363 ,  C08L101:00
FI (7件)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/48 ,  C08J 7/04 CEP Z ,  C08J 7/04 CES Z ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13363 ,  C08L101:00
Fターム (40件)：
2H049BA02 ,  2H049BA04 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB49 ,  2H049BC04 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FC24 ,  2H091FC29 ,  2H091FD07 ,  2H091FD16 ,  2H091FD21 ,  2H091GA06 ,  2H091GA07 ,  2H091KA02 ,  2H091LA19 ,  2H091LA20 ,  4F006AA02 ,  4F006AA12 ,  4F006AB24 ,  4F006AB62 ,  4F006BA00 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4F006EA04 ,  4H027BA01 ,  4H027BA03 ,  4H027BA13 ,  4H027BD07 ,  4J011CA01 ,  4J011CC10 ,  4J011QA07 ,  4J011QA12 ,  4J011QC07 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA10
引用特許：
審査官引用 (3件)

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