特許
J-GLOBAL ID：200903023352779160

反転されたウェハ投影光学系インタフェースを使用する浸漬フォトリソグラフィシステム及び方法

発明者：
ハリー セウェル

ハリー セウェル について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ

エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ について


代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188523
公開番号（公開出願番号）：特開2005-020013
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。【解決手段】基板101を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有する露光系と、投影光学系100と基板101との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、 露光系が設けられており、該露光系が、基板を電磁放射で露光し、かつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系を有しており、 投影光学系と基板との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、 投影光学系が基板の下方に位置決めされていることを特徴とする、液体浸漬フォトリソグラフィシステム。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 521
Fターム (9件)：
2H087KA21 ,  2H087NA00 ,  2H087NA04 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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