特許
J-GLOBAL ID：200903023467728631

パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定装置

発明者：
金山 喜彦

金山 喜彦 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-274867
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037255
出願日： 2003年07月15日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 加工工程後のパターン寸法を、スループットを悪くすることなく正確に測定することができるパターン寸法測定方法を提供する。【解決手段】 パターン寸法測定方法は、レジストパターンに電子線を一定の時間以上照射して前記レジストパターン寸法を測定するステップと、前記一定の時間以上照射したレジストパターンのシュリンク量により、前記測定したレジストパターン寸法を補正して真の前記レジストパターン寸法を求めるステップとを包含しており、前記一定の時間は、前記電子線照射により前記シュリンク量が実質的に一定となる時間であることを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
レジストパターンに電子線を一定の時間以上照射して前記レジストパターン寸法を測定するステップと、 前記一定の時間以上照射したレジストパターンのシュリンク量により、前記測定したレジストパターン寸法を補正して真の前記レジストパターン寸法を求めるステップとを包含しており、 前記一定の時間は、前記電子線照射により前記シュリンク量が実質的に一定となる時間であることを特徴とするパターン寸法測定方法。
IPC (1件)：
G01B15/00
FI (1件)：
G01B15/00 B
Fターム (7件)：
2F067AA26 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067FF01 ,  2F067HH06 ,  2F067QQ01 ,  2F067QQ03
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
  • “Investigation on the Mechanism of the 193nm Resist Linewidth Reduction During the SEM Measurement
審査官引用 (1件)
  • “Investigation on the Mechanism of the 193nm Resist Linewidth Reduction During the SEM Measurement

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