特許

J-GLOBAL ID：200903023468932097

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者： 山口 訓史 ,  吉田 勲 ,  原田 由香子
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-351841
公開番号（公開出願番号）：特開2007-197432
出願日： 2006年12月27日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示される塩。(X:-COO-基の酸素原子に連結している原子を除いては、チオエーテル結合もしくはエーテル結合を含んでいてもよいアルキレン基。Y:少なくとも1つの芳香環を含み炭素数が5〜30である炭化水素基。Yの炭素原子は酸素原子で置換されていてもよく、および/またはカルボニル基を形成していてもよい。Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基およびシアノ基の1種以上を置換基として含んでいてもよい。A+:有機対イオン。n:0か1。Q1、Q2:互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示されることを特徴とする塩。

IPC (5件)：

C07C 309/18 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12

FI (5件)：

C07C309/18 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12

Fターム (12件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA02 ,  4H006AB40

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-215728   出願人：住友化学株式会社