化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 榎本雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-215728
公開番号（公開出願番号）：特開2008-074843
出願日： 2007年08月22日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】より高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Xは、脂環式炭化水素を含み炭素数が3〜30の基を表し、Xに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよく、カルボニル基を形成していてもよい。Yは、炭素数が3〜30の環式炭化水素基を表し、Yに含まれる炭素原子はその一部が酸素原子により置換されていてもよい。さらに、Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基またはシアノ基の1つ以上を置換基として含んでいてもよい。A+は有機対イオンを表し、Q1およびQ2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で示されることを特徴とする塩。

IPC (6件)：

C07C 381/12 , C07C 303/22 , C08F 20/18 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07D 333/46

FI (6件)：

C07C381/12 , C07C303/22 , C08F20/18 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07D333/46

Fターム (31件)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AB78 , 4H006AC48 , 4H006BA66 , 4H006BC10 , 4H006BC31 , 4H039CA66 , 4H039CL25 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BA11R , 4J100BA15R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100JA37 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-039501 出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (2件)

化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-074369 出願人：住友化学株式会社
化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤の中間体
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-235108 出願人：住友化学株式会社, 東ソ-・エフテック株式会社

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