特許

J-GLOBAL ID：200903023487943504

プラズマ装置

発明者： 吉識 隆裕 ,  宮村 忠志
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-053865
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250477
出願日： 1995年03月14日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【構成】マイクロ波導入口3を気密に封止しかつマイクロ波を反応容器1内に導入するためのマイクロ波導入板4及びこれを支える梁5bを有する支持枠5と、反応容器1の周囲壁及びこの支持枠5の梁5bから反応容器1内にガスを導入する孔12および8とを備えた誘電体線路21を利用したプラズマ装置。【効果】液晶ディスプレイ用ガラス基板等の大面積の基板を安定してかつ均一にプラズマ処理することができる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導波路となる誘電体線路と、この誘電体線路に対向する面にマイクロ波導入口が開口された金属製の反応容器と、このマイクロ波導入口を気密に封止しかつマイクロ波を反応容器内に導入するためのマイクロ波導入板及びこれを支える梁を有する支持枠と、上記反応容器の周囲壁及び上記支持枠の梁から反応容器内にガスを導入する手段とを備えることを特徴とするプラズマ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (2件)

• マイクロ波プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-251797   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開昭63-263725