質量分析装置及びイオン注入方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏谷昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-119421
公開番号（公開出願番号）：特開平8-315768
出願日： 1995年05月18日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】質量分析装置及びイオン注入方法に関し、簡単な構成によって分析管の内壁へのイオンの衝突を抑制することによってイオン注入工程のスループットを向上する。【構成】質量分析装置の分析管1の内壁に沿って電極2,4を設け、この内壁に衝突しようとするイオン注入に不必要なイオン6に逆加速を与える電界8を形成する電圧を電極2,4に印加する。

請求項（抜粋）：

質量分析装置の分析管の内壁に沿って電極を設け、前記内壁に衝突しようとするイオンに逆加速を与える電界を形成する電圧を前記電極に印加することを特徴とする質量分析装置。

IPC (6件)：

H01J 49/30 , C23C 14/48 , G01N 27/62 , H01J 37/05 , H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (6件)：

H01J 49/30 , C23C 14/48 Z , G01N 27/62 G , H01J 37/05 , H01J 37/317 C , H01L 21/265 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-128372 出願人：ソニー株式会社
特開昭59-157940

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