特許
J-GLOBAL ID：200903023499180883
新規なポリ(モノパーオキシカーボネート類)
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-510951
公開番号（公開出願番号）：特表2002-514172
出願日： 1997年08月22日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：
【要約】例えば1,1,1-トリス(t-ブチルパーオキシカルボニルオキシメチル)エタンのような一般構造Aの新規なポリ(モノパーオキシカーボネート類):ここで、R,R1およびnは発明の開示に定義されており、これらの製造中間体、並びにこれらの製造方法および使用が開示されている。このモノパーオキシカーボネート化合物は、エチレン性不飽和モノマー、特にスチレンの重合を開始する場合、不飽和ポリエステルを硬化する場合、および例えば架橋または制御鎖分解による重合体の分子量を調整する場合に有用である。
請求項（抜粋）：
構造Aの新規なポリ(モノパーオキシカーボネート):ここで、nは3から8の整数、R1は炭素数4から12のt-アルキルラジカル、1,1,4-トリメチル-4-(t-ブチルパーオキシ)ペンチルラジカル、1,1,4-トリメチル-4-(t-アミルパーオキシ)ペンチルラジカル、炭素数6から10のt-シクロアルキルラジカル、炭素数9から13のt-アラルキルラジカルおよび3-メチル-1-ブチン-3-イルおよび3-メチル-1-ペンチン-3-イルから成る群より選ばれ、但しR1が1,1,4-トリメチル-4-(t-ブチルパーオキシ)ペンチルラジカルおよび1,1,4-トリメチル-4-(t-アミルパーオキシ)ペンチルラジカルから選ばれる時、nは2の値を有することもでき;nが2である時、Rは炭素数2から12のアルキレン、炭素数4から8のアルケニレンおよびラジカル構造(n)および(o)から選ばれるジラジカルであり、ここで、R9は炭素数2から8のアルキレンラジカルであり;nが3の時、Rは1,3,5-シクロヘキサトリイル、R2C(CH2-)3、-CHR2CH(-)CH2-および構造(a)、(b)、(c)、(d)および(e)より選ばれるトリラジカルであり、ここで、R2は水素および炭素数1から6のアルキルラジカルより選ばれ、R3は、R2C(CH2-)3、-CHR2CH(-)CH2-および構造(a)および(b)から成る群より選ばれるトリラジカルであり、R4およびR5は、同一または異なり、水素および炭素数1から4のアルキルラジカルより選ばれ、x、yおよびzは、0から5の整数であり、但しx、yおよびzの合計が2から8より選ばれ、r、sおよびtは、0から6の整数であり、但しr、sおよびtの合計は3から18であり、且つnが4から8である時、Rは、C(CH2-)4および構造(f)、(g)、(h)、(I)、(j)、(k)および(l)より選ばれるポリラジカルであり、ここで、R6は、C(CH2-)4および構造(f)より選ばれるテトララジカルであり、R7は、炭素数2から6のアルキレン、1,2-、1,3-および1,4-フェニレンから選ばれるジラジカルであり、R8は構造(m)のスクロース系オクタラジカルであり、pは1から3の整数であり、vは0から5の整数であり、但しv、x、yおよびzの合計は3から10であり、qは0から4の整数であり、但しq、r、sおよびtの合計は2から16であり、さらにRがR3C(CH2-)3構造(b)またはC(CH2-)4である時、R1はt-オクチルではない。
引用特許：
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