特許
J-GLOBAL ID:200903023546630140
SiO2系セラミックス被覆フィルムの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-076898
公開番号(公開出願番号):特開平9-010687
出願日: 1996年03月29日
公開日(公表日): 1997年01月14日
要約:
【要約】【課題】 ポリシラザンを実質的にSiO2 からなるセラミックスへ転化する方法を提供する。【解決手段】 セラミック化が、(A)ポリシラザン塗膜に基材フィルムの耐熱温度以下の温度で加熱及び加湿処理を施す工程、(B)ポリシラザン塗膜に酸触媒又は塩基触媒含有水溶液を接触させる工程、並びに(C)ポリシラザン塗膜に酸と珪酸エステルとの混合液を接触させる工程から成る群より選ばれた少なくとも一つの工程を含み、且つ前記セラミック化工程の少なくとも一工程を基材の長尺状プラスチックフィルムを搬送しながら行う。
請求項(抜粋):
長尺状プラスチックフィルムの少なくとも片面に形成されたポリシラザン塗膜をセラミック化するSiO2 系セラミックス被覆フィルムの製造方法であって、前記セラミック化が、(A)前記ポリシラザン塗膜に前記フィルムの耐熱温度以下の温度で加熱及び加湿処理を施す工程、(B)前記ポリシラザン塗膜に酸触媒又は塩基触媒含有水溶液を接触させる工程、並びに(C)前記ポリシラザン塗膜に酸と珪酸エステルとの混合液を接触させる工程から成る群より選ばれた少なくとも一つの工程を含み、且つ前記セラミック化工程の少なくとも一工程を前記フィルムを搬送しながら行うことを特徴とするSiO2 系セラミックス被覆フィルムの製造方法。
IPC (4件):
B05D 7/24 302
, B05D 3/02
, B05D 7/04
, C04B 35/14
FI (4件):
B05D 7/24 302 Y
, B05D 3/02 Z
, B05D 7/04
, C04B 35/14
引用特許:
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