特許
J-GLOBAL ID：200903023554347261
吸着性能を持つ高分子錯体の合成法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-400070
公開番号（公開出願番号）：特開2005-162624
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 本発明は、吸着性能を示す高分子錯体を短時間かつ簡便な工程で、工業的規模で製造できる方法を提供する。【解決手段】 金属イオンと有機配位子からなる高分子錯体の合成方法であって、前記金属イオンを含む金属塩の溶媒として水系溶液を使用し、前記有機配位子の溶媒としてアルコール系溶液を用いて、反応を溶液系で行うことを特徴とする吸着性能を持つ高分子錯体の合成法である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
金属イオンと有機配位子からなる高分子錯体の合成方法であって、前記金属イオンを含む金属塩の溶媒として水系溶液を使用し、前記有機配位子の溶媒としてアルコール系溶液を用いて、反応を溶液系で行うことを特徴とする吸着性能を持つ高分子錯体の合成法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4C055AA01
, 4C055BA01
, 4C055CA01
, 4C055DA08
, 4C055DA25
, 4C055EA01
, 4C055GA02
