イオン打込み装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117909
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326319
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】本発明は、10keV以下の質量分離されたイオンビームを試料にイオン打込みする装置において、1mAを越える大電流ビームを打込み可能とする装置を提供することを目的とする。【構成】イオン源1と質量分離器2の中間に減速器5を設けると共に、イオン源1から減速器5までの空間を負の高電圧に保ち、イオンビームを減速する。

請求項（抜粋）：

イオンビームを発生するイオン源と,該イオン源から引出されたイオンビームを質量分離する質量分離器と,該質量分離器により質量分離された特定のイオンを打込み基板にイオン打込みするビーム照射室とを備えたイオン打込み装置において、前記イオン源と質量分離器の間にイオンビームエネルギーの減速器を設けると共に、前記イオン源と減速器の間のビーム輸送空間を負の高電圧に維持したことを特徴とするイオン打込み装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (5件)

イオン照射装置とその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-061252 出願人：日新電機株式会社
特開昭64-007462
特開平2-112140

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