特許
J-GLOBAL ID:200903023660798973
焼成処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-288023
公開番号(公開出願番号):特開2001-110313
出願日: 1999年10月08日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】 PDP用の背面板、前面板の作製において、PDPの大型化、高品質化、量産化に対応できる焼成処理装置を提供する。【解決手段】 処理基板の加工用素材を焼成する焼成処理を、1つの炉内において、複数の処理基板に対し一度に行うためのバッチ型の焼成処理装置であって、加熱用のエアーあるいは冷却用のエアーを処理基板面に供給するエアー供給孔を設けたエアー分散板をほぼ水平に所定の間隔をあけ多段に設けたもので、各処理基板を前記エアー分散板上に搭載して、加熱用のエアーあるいは冷却用のエアーをエアー分散板から処理基板に吹き付けて、加熱処理あるいは冷却処理を行うものである。更に、供給するエアーを制御して加熱する加熱部、及び制御して冷却する冷却部を備えている。
請求項(抜粋):
処理基板の加工用素材を焼成する焼成処理を、1つの炉内において、複数の処理基板に対し一度に行うためのバッチ型の焼成処理装置であって、加熱用のエアーあるいは冷却用のエアーを処理基板面に供給するエアー供給孔を設けたエアー分散板をほぼ水平に所定の間隔をあけ多段に設けたもので、各処理基板を前記エアー分散板上に搭載して、加熱用のエアーあるいは冷却用のエアーをエアー分散板から処理基板に吹き付けて、加熱処理あるいは冷却処理を行うものであることを特徴とする焼成処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01J 9/38 A
, H01J 11/02 B
Fターム (8件):
5C012AA09
, 5C040FA01
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040JA21
, 5C040MA22
, 5C040MA24
, 5C040MA25
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-050163
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バッチ式熱処理炉
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-327608
出願人:中外炉工業株式会社
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特開平3-050163
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基板を熱処理する装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-106757
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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