特許
J-GLOBAL ID：200903023668123177

脱窒素方法、脱窒性硫黄酸化細菌固定担体及び脱窒性硫黄酸化細菌固定担体の製造方法

発明者：
伊藤 久明

伊藤 久明 について

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早川 智基

早川 智基 について

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天野 義文

天野 義文 について

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管野 善則

管野 善則 について

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中村 和夫

中村 和夫 について


出願人/特許権者：
月島機械株式会社

月島機械株式会社 について


代理人 (1件)： 永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-318179
公開番号（公開出願番号）：特開2002-119278
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：
【要約】【課題】溶融硫黄を脱窒性硫黄酸化細菌固定担体として利用することを可能とする。【解決手段】脱窒素処理に際して、被処理液と嫌気条件下または無酸素条件下で接触する脱窒性硫黄酸化細菌固定担体であって、単体硫黄からなり、少なくとも前記被処理液と接触する表面部Sが、短径100μm以下の担持孔Hによって多孔質とされる。
請求項（抜粋）：
脱窒素処理に際して、被処理液と嫌気条件下または無酸素条件下で接触する脱窒性硫黄酸化細菌固定担体であって、単体硫黄からなり、表面に短径100μm以下の人工的に形成された担持孔を有することを特徴とする脱窒性硫黄酸化細菌固定担体。
IPC (9件)：
C12N 11/14 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/28 ,  C02F 3/34 ,  C02F 3/34 101 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/40 ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:01
FI (10件)：
C12N 11/14 ,  C02F 3/10 A ,  C02F 3/28 B ,  C02F 3/34 Z ,  C02F 3/34 101 D ,  C12M 1/00 H ,  C12M 1/40 Z ,  C12N 1/20 D ,  C12N 1/20 F ,  C12R 1:01
Fターム (35件)：
4B029AA02 ,  4B029AA21 ,  4B029DA01 ,  4B029DB17 ,  4B029DG08 ,  4B033NA01 ,  4B033NA12 ,  4B033NB02 ,  4B033NB12 ,  4B033NB22 ,  4B033NB62 ,  4B033NB64 ,  4B033NC04 ,  4B033ND04 ,  4B033ND20 ,  4B065AA01X ,  4B065AC20 ,  4B065BA22 ,  4B065BC24 ,  4B065BC42 ,  4B065BD05 ,  4B065CA55 ,  4D003AA01 ,  4D003AA13 ,  4D003BA03 ,  4D003EA01 ,  4D003EA19 ,  4D003EA22 ,  4D003FA10 ,  4D040AA04 ,  4D040BB02 ,  4D040BB13 ,  4D040DD03 ,  4D040DD14 ,  4D040DD31
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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