特許

J-GLOBAL ID：200903023709171548

荷電粒子ビーム露光方法及びシステム

発明者： 竹本 暁生 ,  大饗 義久 ,  津田 章義
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-316778
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163087
出願日： 1996年11月27日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】2つの試料に対し同時に点対称的に露光を行う場合において、同一のステンシルマスクを用いることができるようにし、また、ステンシルマスク装着の作業性を向上させる。【解決手段】荷電粒子ビーム露光装置が2つ連設されたシステムにおいて、両可動ステージ15、16の重心が動かないように走査させ、且つ、両ウェーハ11及び12上のブロック露光点の重心が動かないように走査させる。ステンシルマスク装着部24及び34に対応してそれぞれステンシルマスクローダ55及び65を設置し、これらにより、受部52及び62に同一方向に搭載されたカセット50及び60からステンシルマスクを取り出し互いに反対方向へ90 ゚回転させ、ステンシルマスク装着部24及び34に装着させる。

請求項（抜粋）：

試料が搭載される可動ステージと、透過孔のブロックパターンが複数形成されたステンシルマスクが装着されるステンシルマスク装着部と、該ステンシルマスクの選択されたブロックパターンに荷電粒子ビームを透過させて該荷電粒子ビームの断面を成形させ該試料上に縮小投影露光させる荷電粒子ビーム照射装置と、を有する荷電粒子ビーム露光装置が2つ連設された荷電粒子ビーム露光システムを用いた露光方法であって、該2つの荷電粒子ビーム露光装置のステンシルマスク装着部に対し互いに等しいステンシルマスクを、一方のステンシルマスクが他方のステンシルマスクを180 ゚回転させた状態になるように該ステンシルマスク装着部に装着させる第1工程とこの状態で、該2つの荷電粒子ビーム照射装置の可動ステージを、両可動ステージの重心が動かないように走査させ、且つ、該2つの荷電粒子ビーム照射装置の荷電粒子ビームを、両試料上のブロック露光点の重心が動かないように走査させる第2工程と、を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 R ,  G03F 7/20 504

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 荷電粒子ビーム露光方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-081448   出願人：富士通株式会社