特許

J-GLOBAL ID：200903023752144449

現像方法及び現像装置

発明者： 伊藤 康浩
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 特許業務法人 天城国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-011502
公開番号（公開出願番号）：特開2006-202893
出願日： 2005年01月19日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：

【課題】 安定してウェハー上に均一に現像液を塗布することができ、レジストの寸法精度の向上を図ることが可能な現像方法及び現像装置を提供する。【解決手段】 レジストが塗布、露光されたウェハー1をステージ2上に保持する工程と、前記ウェハー1上に、現像液3を所定幅で所定方向にスキャンパドルする工程と、前記現像液のスキャン方向側端面の位置を制御する工程を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

レジストが塗布、露光されたウェハーをステージ上に保持する工程と、 前記ウェハー上に、現像液を所定幅で所定方向にスキャンパドルする工程と、 前記現像液のスキャン方向側端面の位置を制御する工程を備えることを特徴とする現像方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  B05C 7/08

FI (3件)：

H01L21/30 569F ,  B05C5/02 ,  B05C7/08

Fターム (15件)：

4F041AA06 ,  4F041BA54 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA23 ,  4F041CA25 ,  4F042AA07 ,  4F042BA06 ,  4F042BA13 ,  4F042BA25 ,  4F042BA27 ,  4F042DC00 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 現像処理装置及び現像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-224967   出願人：東京エレクトロン株式会社