現像処理装置及び現像処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224967
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071637
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】基板に対してスキャン方式による現像液の塗布を行うにあたり、プルバック現象(液弾き)の発生を抑えながら基板に現像液を接触させ、該基板上に形成された露光領域のレジストを溶解すること。またスキャン方式によって現像処理を行うにあたり、現像液の消費量を抑えること。【解決手段】基板上の露光済みのレジスト膜の表面に、該基板の有効領域に対応する長さの吐出口が形成されたノズルを、吐出口の長さ方向と直交する側に、且つ基板の一端側から他端側へ移動させる。このときノズルは現像液を吐出し、且つ基板上の現像液を表面張力で引き寄せながら移動し、これに伴いノズルの後方側で基板表面が目視では液膜を確認できない状態となるように、現像液に気体を吹き付けて該現像液を進行方向側に送り出す。ノズルが他端側まで移動を終えると、静止現像が行われ、その後基板の洗浄が行われる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

表面にレジストが塗布され、露光処理の施された基板を略水平に保持する基板保持部と、前記基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って現像液の吐出口が形成された現像液ノズルと、前記吐出口の長さ方向と略直交する方向に、且つ前記基板の一端側から他端側へ当該基板と相対的に現像液ノズルを移動させる移動機構と、前記現像液ノズルが現像液を基板の表面に接触させながら移動するときに、表面張力により当該現像液が現像液ノズルに引き寄せられて現像液ノズルの通過後の基板の表面が目視では液膜を確認できない状態となるように、現像液ノズルから吐出された現像液を進行方向に向かって送る液送り手段と、を備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/30

FI (2件)：

H01L21/30 569C , G03F7/30 501

Fターム (5件)：

2H096AA25 , 2H096GA21 , 2H096LA16 , 5F046LA04 , 5F046LA06

引用特許：

審査官引用 (10件)

液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-126103 出願人：東京エレクトロン株式会社
端面剥膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-068659 出願人：凸版印刷株式会社
基板の処理方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-122572 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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