特許
J-GLOBAL ID:200903023756887900
ガス溶解方法とその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池条 重信
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-088043
公開番号(公開出願番号):特開2006-263641
出願日: 2005年03月25日
公開日(公表日): 2006年10月05日
要約:
【課題】 水素還元水の製造を初め、酸素、二酸化炭素等のガスやオゾンを常温以下の水に極めて効率よく溶解させることが可能なガス溶解方法とその装置の提供。【解決手段】 水の供給・循環ポンプに溶解予定ガスを供給し、少しガスを溶解させてバブリングさせた水を作製し、これを当該ガスを入れた気液接触リアクター内を落下させる構成とすることで、通常の冷水であっても短時間の処理で、例えば水素ガスの場合、マイナス数百mV以下という非常に低い酸化還元電位を有する水素還元水が得られる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
処理原水に被溶解ガスを混入させた微細気泡含有水を気液接触手段に送る給水工程と、気液接触手段にて被溶解ガスと前記微細気泡含有水とを散水接触させる気液接触工程と、前記気液接触手段を通過した処理水の全部又は一部を再度前記給水工程へと送る循環工程とを有するガス溶解方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (16件):
4D020AA01
, 4D020AA02
, 4D020AA03
, 4D020AA10
, 4D020BA23
, 4D020CB08
, 4D020CB10
, 4D020CB25
, 4D020CC01
, 4D020CC05
, 4D020CC06
, 4D020DB04
, 4G035AA01
, 4G035AB05
, 4G035AE02
, 4G035AE19
引用特許:
出願人引用 (2件)
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水素還元水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-227095
出願人:株式会社ノーリツ
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還元水及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-183519
出願人:株式会社ティーイーディー
審査官引用 (4件)