特許
J-GLOBAL ID：200903002904173639
還元水及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-183519
公開番号（公開出願番号）：特開2004-351399
出願日： 2003年05月26日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】小型の製造装置で、経済的に製造し酸化還元電位が低く、還元性が非常に強い水を得ること。【解決手段】50°C〜100°Cに熱した水に-180°C〜90°Cの水素ガスを0.1気圧〜1000気圧に加圧して溶解せしめ、その後常温常圧に戻すことにより本発明の還元水を得る。本発明の還元水は非常に低い酸化還元電位を有しているので、何らの健康問題を引き起こすことなく、還元水として日常的に摂取することができる。
請求項（抜粋）：
常圧下で酸化還元電位が-10mv以下-2000mv以上である還元水。
IPC (3件)：
C02F1/68
, B01F1/00
, C02F1/70
C02F1/68 520B
, C02F1/68 510A
, C02F1/68 510B
, C02F1/68 510C
, C02F1/68 530A
, C02F1/68 530K
, C02F1/68 530L
, B01F1/00 A
, C02F1/70 Z
4D050AA01
, 4D050AA02
, 4D050AA04
, 4D050AA06
, 4D050AB31
, 4D050BA14
, 4D050BC01
, 4D050BC02
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4G035AA01
, 4G035AE02
, 4G035AE15
