特許
J-GLOBAL ID：200903023775621821
欠陥源候補抽出プログラムと検査システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-067821
公開番号（公開出願番号）：特開2003-272983
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：
【要約】【課題】半導体集積回路などの製造過程において,不具合が生じた製造装置を見つけ出すためには,大量の欠陥検査のデータが必要であった。本発明では,少数ウェーハに対する欠陥検査のデータを用いて,効率的に不具合が生じた製造装置を絞り込むプログラムを提供する。【解決手段】複数の対象ウェーハ選択処理11,欠陥座標データ入力処理12,欠陥座標データフィルタリング処理13,検査工程選択処理14,異常有り/異常無しウェーハ分類処理15,処理履歴データ入力処理16,処理履歴データ部分抽出処理17,共通処理装置検索処理18,欠陥源候補リスト出力処理19を順次実行することで,不具合が生じた製造装置の候補を出力する。
請求項（抜粋）：
被検査対象の有する異物ないしはパターン欠陥の発生源を見つけ出すために実行するプログラムにおいて,複数の被検査対象に対して検査装置で検査して得た複数の検査データを入力する検査データ入力処理と,該被検査対象毎に,被検査対象が製造工程毎に通過した装置の履歴が格納された処理履歴データを入力する処理履歴データ入力処理と,該検査データ入力処理で入力された複数の該検査データから,異常が含まれる被検査対象と,異常が含まれない被検査対象に分類する被検査対象分類処理と,該被検査対象分類処理で分類した結果と,該処理履歴データに含まれる装置の履歴とから,異物ないしはパターン欠陥の発生源の候補を抽出する発生源抽出処理と,該発生源抽出処理で抽出した発生源の候補を出力する出力処理とを実行することを特徴とする欠陥源候補抽出プログラム。
IPC (3件)：
H01L 21/02
, G01N 21/956
, H01L 21/66
H01L 21/02 Z
, G01N 21/956 A
, H01L 21/66 Z
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA21
, 2G051EC02
, 2G051FA01
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106CA38
, 4M106DJ20
, 4M106DJ26
, 4M106DJ38
, 4M106DJ40
