特許

J-GLOBAL ID：200903023792824612

基板保持状態確認方法および装置

発明者： 森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-236070
公開番号（公開出願番号）：特開平9-064155
出願日： 1995年08月21日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】 基板を回転させることなく基板の保持状態を確認する。【解決手段】 回転台10に保持された半導体ウェハWの上表面と下表面に向けて、投光器21,31から光ビームL1,L2をそれぞれ照射して半導体ウェハWの上表面と下表面でそれぞれ反射させる。そして、反射された光ビームL1,L2が受光器22,32で受光されるか否かに応じて、半導体ウェハWが正常な姿勢で保持されているか否か、および、半導体ウェハWの上表面と下表面のいずれが鏡面であるかを判断する。

請求項（抜粋）：

基板を支持するための基板支持体を有する回転式基板処理装置に使用され、前記基板支持体における基板の保持状態を確認する方法であって、前記基板支持体に保持された基板に向けて光ビームを照射して前記基板の表面で反射させ、反射された光ビームが受光器で受光されるか否かによって、前記基板の保持状態が正常か否かを判断することを特徴とする基板保持状態確認方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G11B 7/26 ,  G01B 11/00

FI (4件)：

H01L 21/68 L ,  H01L 21/68 N ,  G11B 7/26 ,  G01B 11/00 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-206101   出願人：株式会社東芝