特許

J-GLOBAL ID：200903023803223764

蒸着装置及び蒸着方法

発明者： 大江 仁
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254123
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060930
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】蒸着開始から蒸着終了まで常に一定の成膜レートで蒸着を行うことのできる蒸着装置及び蒸着方法を提供する。【解決手段】蒸着室1内に、蒸着源2と、蒸着流3の流路中に蒸着対象物4を保持する蒸着対象物保持具5と、蒸着流3の流路中に配され、蒸着対象物4上の成膜レートを測定する膜厚モニター6と、蒸着対象物4をその直前で蒸着流から遮蔽しうる第1シャッター7と、膜厚モニター6を蒸着流3から遮蔽しうる第2シャッター8と、膜厚モニター6による蒸着対象物4上の成膜レートの測定結果に基づいて蒸着源2を成膜レートが一定に保たれるよう自動制御する成膜レート制御手段9とを設け、蒸着開始時の膜厚モニター6における成膜レートが安定したものになってから蒸着対象物4に対する蒸着を開始し、蒸着対象物4に対する蒸着が開始された後は成膜レート制御手段9により蒸着源2が常に成膜レートが一定に保たれよう自動制御するようにした。

請求項（抜粋）：

蒸着室内に、蒸着源と、この蒸着源から放出される蒸着流の流路中に蒸着対象物を保持する蒸着対象物保持具と、前記蒸着流の流路中に配され、前記蒸着対象物上の成膜レートを測定する膜厚モニターとを備えた蒸着装置において、蒸着対象物をその直前で蒸着流から遮蔽しうる第1シャッターと、膜厚モニターを蒸着流から遮蔽しうる第2シャッターと、蒸着源と膜厚モニターとの間に介装され、膜厚モニターによる蒸着対象物上の成膜レートの測定結果に基づいて蒸着源を成膜レートが一定に保たれるよう自動制御する成膜レート制御手段と、が設けられたことを特徴とする蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  H01S 5/028

FI (2件)：

C23C 14/24 U ,  H01S 5/028

Fターム (22件)：

4K029AA04 ,  4K029BA35 ,  4K029BA44 ,  4K029BB02 ,  4K029BB10 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA13 ,  4K029DB21 ,  4K029EA01 ,  5F073AA26 ,  5F073AA53 ,  5F073AA55 ,  5F073AA83 ,  5F073CA05 ,  5F073CB02 ,  5F073CB07 ,  5F073CB10 ,  5F073CB20 ,  5F073DA05 ,  5F073DA22 ,  5F073HA10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-230270   出願人：キヤノン株式会社