特許
J-GLOBAL ID：200903023874405022
円筒状ワークのマスキング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
飯田 昭夫
, 飯田 堅太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-286450
公開番号（公開出願番号）：特開2004-125913
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【目的】円筒状のワークの周面にフォトレジストによる精度の高いマスキングが可能となる円筒状ワークのマスキング方法を提供すること。【構成】円筒状のワークの周面にフォトレジスト(感光性樹脂)によりマスキングを行う方法。ワーク16の周面全体にフォトレジスト膜18を形成後、ワーク16の母線に沿って伸張状態のパタンシートを当接させてフォトマスク20とする。フォトマスク20の当接部位にスリット状ビームを照射した状態で、ワーク16を回転させながら、該ワーク16の周速と同一速度でフォトマスク20を相対移動させる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
円筒状のワークの周面にフォトレジスト(感光性樹脂)によりマスキングを行う方法であって、
前記ワークの周面全体にフォトレジスト膜を形成後、
ワークの母線に沿って伸張状態のパターンシートを当接させてフォトマスクとし、
該フォトマスクの当接部位にスリット状ビームを照射した状態で、
前記ワークを回転させながら、該ワークの周速と同一速度でフォトマスクを相対移動させることを特徴とする円筒状ワークのマスキング方法。
IPC (4件)：
G03F1/08
, F16C17/02
, F16C33/14
, G03F7/24
G03F1/08 G
, F16C17/02 A
, F16C33/14 Z
, G03F7/24 Z
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BC09
, 2H095BC27
, 2H095BC28
, 2H097AA16
, 2H097AB10
, 2H097FA09
, 2H097JA02
, 2H097LA20
, 3J011AA04
, 3J011BA02
, 3J011CA02
, 3J011DA02
