特許

J-GLOBAL ID：200903023883402443

電子材料の洗浄方法

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291027
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117208
出願日： 1998年10月13日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】電子材料、特にシリコン基板等の電子材料の表面の金属、有機物、微粒子汚染を除去し、しかも、洗浄工程における基板表面の原子オーダーでのラフネスの増加を押さえることができる簡便な洗浄方法を提供する。【解決手段】電子材料を酸化性の洗浄液で洗浄した後に、超音波振動を付与しつつ、還元性の洗浄液で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

電子材料を酸化性の洗浄液で洗浄した後に、超音波振動を付与しつつ、還元性の洗浄液で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 647

FI (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (9件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体等製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-064018   出願人：株式会社フロンテック