特許

J-GLOBAL ID：200903023892779185

有機物質処理剤、有機物質処理方法、および有機物質処理装置

発明者： 中島 章 ,  岡田 清 ,  亀島 欣一 ,  佐々木 洋和
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (1件)： 磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-174829
公開番号（公開出願番号）：特開2008-030031
出願日： 2007年07月03日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】新規な有機物質処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】有機物質処理方法は、有機物質と有機物質処理剤の共存下に、超音波を照射する方法である。ここで、有機物質処理剤は欠陥を有する物を含有している。欠陥を有する物は、たとえば酸素欠陥を有する酸化チタンである。有機物質は、たとえば有機化合物、生物体である。有機化合物は、たとえば1,4-ジオキサンである。生物体は、たとえば菌、バクテリア、ウイルスである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

欠陥を有する物を含有する 有機物質処理剤。

IPC (4件)：

B01J 21/06 ,  C02F 1/36 ,  B01J 23/10 ,  B01J 23/06

FI (4件)：

B01J21/06 M ,  C02F1/36 ,  B01J23/10 M ,  B01J23/06 M

Fターム (36件)：

4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037AB11 ,  4D037BA26 ,  4D037BB09 ,  4G169AA02 ,  4G169BB01A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BB11A ,  4G169BB15A ,  4G169BC31A ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC36A ,  4G169BC40B ,  4G169BC47A ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC58A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BD04A ,  4G169BD05A ,  4G169BD06A ,  4G169CA05 ,  4G169CA11 ,  4G169EA01Y ,  4G169EB18Y ,  4G169EC02Y ,  4G169EC27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 水処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-152442   出願人：JFEエンジニアリング株式会社