特許
J-GLOBAL ID:200903023911005862

光触媒薄膜及びその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 下田 容一郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-310896
公開番号(公開出願番号):特開平8-066635
出願日: 1994年12月14日
公開日(公表日): 1996年03月12日
要約:
【要約】【目的】 高い脱臭能力を有し、しかも長期的且つ繰返し使用に耐え得る光触媒薄膜を提供する。【構成】 タイル等の基板表面にルチル型TiO2薄膜を形成し、次いでこの薄膜上にCu、Ag、Fe、Co、Pt、Ni、Pd、Cu2Oのうち少なくとも一種の金属塩水溶液またはエタノール溶液を塗布し、この後、紫外線を含む光を照射して金属イオンを還元してルチル型TiO2薄膜に金属を固定化する。
請求項(抜粋):
基材表面にルチル型TiO2薄膜が形成され、このTiO2薄膜の上にCu、Ag、Fe、Co、Pt、Ni、Pd、Cu2Oのうち少なくとも一種が固定化されていることを特徴とする光触媒薄膜。
IPC (6件):
B01J 35/02 ,  A61L 9/01 ,  B32B 9/00 ,  B32B 15/04 ,  C01G 23/04 ,  C04B 41/89
引用特許:
審査官引用 (17件)
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