特許

J-GLOBAL ID：200903023995030344

現像廃液再生装置及び現像廃液再生方法

発明者： 小川 修 ,  小早川 泰之 ,  北川 悌也 ,  菊川 誠
出願人/特許権者： 長瀬産業株式会社 ,  日本アブコー株式会社 ,  ナガセ電子機器サービス株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-167354
公開番号（公開出願番号）：特開2002-361249
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
要約：

【要約】【課題】 半導体製造工場等の内部で現像廃液からテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド含有液を再生すること。【解決手段】 テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドおよびフォトレジストを含有する現像廃液を移送する現像廃液移送部13、14と、移送された現像廃液を貯蔵する第1の貯槽2と、第1のナノフィルトレーション膜を備え、第1の貯槽に貯蔵されている現像廃液を、テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを含有する第1の透過液と第1の非透過成分とに分離する第1の分離手段5と、第1の透過液を貯蔵する第2の貯槽と、第1のナノフィルトレーション膜とは異なる分画分子量を有する第2のナノフィルトレーション膜を備え、第2の貯槽に貯蔵されている第1の透過液を第2の透過液とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを含有する第2の非透過成分とに分離する第2の分離手段11とを備える。

請求項（抜粋）：

テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドおよびフォトレジストを含有する現像廃液を移送する現像廃液移送部と、前記移送された現像廃液を貯蔵する第1の貯槽と、第1のナノフィルトレーション膜を備え、前記第1の貯槽に貯蔵されている現像廃液を、テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを含有する第1の透過液と第1の非透過成分とに分離する第1の分離手段と、前記第1の透過液を貯蔵する第2の貯槽と、前記第1のナノフィルトレーション膜とは異なる分画分子量を有する第2のナノフィルトレーション膜を備え、前記第2の貯槽に貯蔵されている第1の透過液を第2の透過液とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドを含有する第2の非透過成分とに分離する第2の分離手段とを備えることを特徴とする現像廃液再生装置。

IPC (5件)：

C02F 1/44 ZAB ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/58 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

C02F 1/44 ZAB F ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/58 ,  H01L 21/30 569 A ,  H01L 21/306 J

Fターム (19件)：

4D006GA07 ,  4D006HA21 ,  4D006HA61 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006MA02 ,  4D006MA04 ,  4D006MA06 ,  4D006MB05 ,  4D006MB11 ,  4D006MC39 ,  4D006MC62 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  5F043EE32 ,  5F043EE33 ,  5F046LA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト現像廃液の再生処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-010025   出願人：オルガノ株式会社
• 特開昭61-200811