特許
J-GLOBAL ID：200903062816355193
フォトレジスト現像廃液の再生処理方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-010025
公開番号（公開出願番号）：特開平11-192481
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 純度の向上したテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含むNF透過液を得るフォトレジスト現像廃液の簡単な再生処理方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウム(TAA)イオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、ナノフィルター(NF)により現像廃液又はそれに由来する処理液をNF膜分離処理して、フォトレジスト等の不純物を主として含むNF濃縮液とTAAイオンを主として含むNF透過液を得る。NF濃縮液又はNF透過液、好ましくはNF透過液に対して、電気透析及び/又は電解により濃縮精製する工程、必要に応じて、更にイオン交換処理で精製する工程を行うのが望ましい。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、ナノフィルトレーション膜(NF膜)によりフォトレジスト現像廃液又はフォトレジスト現像廃液に由来する処理液を膜分離処理し、フォトレジスト等の不純物を主として含む濃縮液とテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含む透過液を得る膜分離工程(A)を少なくとも含むことを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
IPC (17件)：
C02F 1/44
, B01D 15/08
, B01D 61/02 500
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, B01D 61/14 500
, B01D 61/16
, B01D 61/18
, B01D 61/58
, B01J 39/04
, B01J 41/04
, C02F 1/04
, C02F 1/42
, C02F 1/461
, C02F 1/469
, C02F 1/58
, G03F 7/32
C02F 1/44 F
, B01D 15/08
, B01D 61/02 500
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, B01D 61/14 500
, B01D 61/16
, B01D 61/18
, B01D 61/58
, B01J 39/04 J
, B01J 41/04 J
, C02F 1/04 D
, C02F 1/42 D
, C02F 1/58 A
, G03F 7/32
, C02F 1/46 101 C
, C02F 1/46 103
