特許
J-GLOBAL ID：200903024009580770
光触媒と光照射による過酸化水素の除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高橋 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-324880
公開番号（公開出願番号）：特開平10-151451
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 還元剤の添加という難しい中和反応処理を行わず、また粒状活性炭によって過酸化水素含有液のpHを調整するという面倒な作業をせず、液体中の過酸化水素に対して最適な光照射量で光照射処理を行い、効率的に、低コストで過酸化水素を分解、除去する。【手段】 液体中の過酸化水素に対して、光触媒の存在下で、紫外線ランプ等による光照射を行い、過酸化水素の分解、除去を行う。液体中の過酸化水素に対して、光触媒の存在下で、過酸化水素の100〜1000mg/l当たり、光照射量を0.1〜 10w・s/cm2 の条件で光照射して過酸化水素を分解、除去をする。
請求項（抜粋）：
液体中の過酸化水素に対して、光触媒の存在下で、紫外線ランプ、キセノンランプ、ブラックライト等による光照射を行い、過酸化水素の分解、除去を行う光触媒と光照射による過酸化水素の除去方法。
IPC (3件)：
C02F 1/32
, B01J 35/02
, C02F 1/58
C02F 1/32
, B01J 35/02 J
, C02F 1/58 H
