特許

J-GLOBAL ID：200903024017295804

ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物

発明者： 牛山 広俊 ,  木村 明 ,  篠原 明
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-321394
公開番号（公開出願番号）：特開平7-150192
出願日： 1993年11月26日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：

【要約】【構成】 グリコールのモノまたはジエーテル、脂肪酸またはそのアルキレンオキシド付加物ないしはこのエーテル化物、パラフィンあるいはオレフィンの1種以上からなるピッチ洗浄用の液体洗浄剤組成物。【効果】 ハロゲン系炭化水素を用いることがなくとも、光学レンズの加工工程などで用いられるピッチや接着剤を高度に洗浄することができる。

請求項（抜粋）：

化1の一般式(I)、化2の一般式(II)、化3の一般式(III)および一般式(IV)で示される化合物の1種または2種以上を含有することを特徴とするピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物。【化1】R1-O-(A1O)m-R2 ...(I)(R1 :炭素数1〜9のアルキル基、アルケニル基またはアルキルフェニル基R2 :水素原子または炭素数1〜9のアルキル基ないしはアルケニル基A1 :炭素数2〜4のアルキレン基m:アルキレンオキシドA1 Oの平均付加モル数を表し、1〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよい。)【化2】R3-COO-(A2O)n-R4 ...(II)(R3 :炭素数3〜21のアルキル基またはアルケニル基R4 :水素原子または炭素数1〜18のアルキル基ないしはアルケニル基A2 :炭素数2〜4のアルキレン基n:アルキレンオキシドA2 Oの平均付加モル数を表し、0〜20の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で付加していてもよく、2種類以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもよい。)【化3】

IPC (4件)：

C11D 1/72 ,  C10C 3/00 ,  C11D 1/74 ,  C11D 7/26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ピッチ、松ヤニ等の溶解洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-066109   出願人：株式会社エフ・テックス, オリンパス光学工業株式会社
• ピッチ、松ヤニ等の溶解洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-055195   出願人：株式会社エフ・テックス, オリンパス光学工業株式会社
• 光学部品用洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-244832   出願人：花王株式会社
• 特開平4-103699