特許
J-GLOBAL ID：200903024029700224
3次元計測方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-299921
公開番号（公開出願番号）：特開平9-145319
出願日： 1995年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】物体の反射率が不均一である場合にも高分解能で高精度の計測が可能であり、計測距離の設定の自由度が大きい3次元計測を実現する。【解決手段】検出光Uを照射して物体Qを光学的に走査するための投光手段と、物体Qで反射した検出光Uを受光する撮像手段とを用いる3次元計測に際して、物体Qに対する検出光Uの照射方向θaを変化させながら、撮像面S2内の特定の受光領域gに入射する検出光Uの光量を周期的にサンプリングし、光量のサンプリング値の最大値と、当該最大値を得たサンプリングの1つ前及び1つ後のサンプリングにおけるサンプリング値とを含む3つ以上のサンプリング値に基づいて、補間演算によって前記光量が最大となる照射タイミングNpeakを求め、物体Q上の受光領域gに対応した部位agの位置を、照射タイミングにおける照射方向及び受光領域gに対する検出光の入射方向との関係に基づいて求める。
請求項（抜粋）：
検出光を照射して物体を光学的に走査するための投光手段と、前記物体で反射した前記検出光を受光する撮像手段とを用いる3次元計測方法であって、前記物体に対する前記検出光の照射方向を変化させながら、前記撮像手段の撮像面内の特定の受光領域に入射する前記検出光の光量を周期的にサンプリングし、前記光量のサンプリング値の最大値と、当該最大値を得たサンプリングの1つ前及び1つ後のサンプリングにおけるサンプリング値とを含む3つ以上のサンプリング値に基づいて、補間演算によって前記光量が最大となる照射タイミングを求め、前記物体上の前記受光領域に対応した部位の位置を、前記照射タイミングにおける照射方向及び前記受光領域に対する前記検出光の入射方向との関係に基づいて求めることを特徴とする3次元計測方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G01B 11/24
, G06T 7/00
G01B 11/00 H
, G01B 11/24 K
, G06F 15/62 415
