ワークピースを表面処理するための真空装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-273741
公開番号（公開出願番号）：特開平9-176857
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1997年07月08日
要約：

【要約】【課題】取扱いが簡単で、所要床面積が小さく、高められたサイクル時間で、大面積の基板を処理可能な、経済性に優れた真空装置を提供する。【解決手段】搬送室6aが、真空室6bの外周面に接線方向で配置されていて、真空室6bと搬送開口15を介して接続されており、これにより第1の搬送装置9,17を用いてワークピース21を、搬送開口15を通して回転式の基板担体8にローディングすることができるようになっており、ローディング室7a,7bが真空室6bに対して接線方向で搬送室6aと接続されており、搬送室6aが第1の搬送装置9,17に対して直角な方向で第3の搬送装置10,18,19a,20を有しており、しかも第2の搬送装置と第3の搬送装置とが、同じ接線方向に方向付けられて位置している。

請求項（抜粋）：

ワークピース(21)を表面処理するための真空装置であって、真空室(6b)が設けられており、該真空室(6b)が、中心軸線(14)を中心にして回転可能な基板担体(8)を取り囲んでいて、該基板担体(8)の周囲に少なくとも1つの処理ステーション(1〜5)が配置されており、基板を搬送するための搬送室(6a)が設けられており、該搬送室(6a)が搬送開口(15)を介して真空室(6b)と接続されていて、かつ中心軸線(14)に対して半径方向に、第1の基板取扱い兼搬送装置(9,17)を有しており、ワークピース(21)をローディング又はアンローディングするために、大気側におけるローディング室ドア(12a,12b)と真空側におけるローディング室弁(11a,11b)とを備えた少なくとも1つのローディング室(7a,7b)が設けられており、該ローディング室(7a,7b)が第2の基板取扱い兼搬送装置(10,18,19b,20)を有している形式のものにおいて、搬送室(6a)が、真空室(6b)の外周面に接線方向で配置されていて、真空室(6b)と搬送開口(15)を介して接続されており、これにより第1の搬送装置(9,17)を用いてワークピース(21)を、搬送開口(15)を通して回転式の基板担体(8)にローディングすることができるようになっており、ローディング室(7a,7b)が真空室(6b)に対して接線方向で搬送室(6a)と接続されており、搬送室(6a)が第1の搬送装置(9,17)に対して直角な方向で第3の搬送装置(10,18,19a,20)を有しており、しかも第2の搬送装置と第3の搬送装置とが、同じ接線方向に方向付けられて位置していることを特徴とする、ワークピースを表面処理するための真空装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 , C23F 4/00

FI (2件)：

C23C 14/56 G , C23F 4/00 Z

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭60-039162
特開昭61-192334
特開昭60-052574

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