特許

J-GLOBAL ID：200903024046869852

光造形法

発明者： 古田 慧 ,  徐 毅
出願人/特許権者： エヌ・ティ・ティ・データ・シーメット株式会社
代理人 (1件)： 小玉 秀男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-017486
公開番号（公開出願番号）：特開2000-211033
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 後処理工程の際に造形物がひずむことを抑制することができる光造形法を提供する。【解決手段】 光硬化性液の液面の所定範囲に光を照射することにより硬化層を形成し、その硬化層を複数積み重ねることにより三次元形状を造形する工程と、前記工程で造形した造形物の変形を拘束した状態で、その造形物に硬化促進エネルギを付与する工程とを備えた。

請求項（抜粋）：

光硬化性液に光を局所的に照射することにより所望の3 次元形状を造形する光造形法であって、光硬化性液の液面の所定範囲に光を照射することにより硬化層を形成し、その硬化層を複数積み重ねることにより三次元形状を造形する工程と、前記工程で造形した造形物の変形を拘束した状態で、その造形物に硬化促進エネルギを付与する工程とを備えた光造形法。

IPC (3件)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24

FI (2件)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08

Fターム (18件)：

4F203AA44 ,  4F203DA12 ,  4F203DC01 ,  4F203DC07 ,  4F203DK02 ,  4F203DW06 ,  4F213AA44 ,  4F213WA25 ,  4F213WA53 ,  4F213WA54 ,  4F213WA86 ,  4F213WA87 ,  4F213WB01 ,  4F213WL02 ,  4F213WL05 ,  4F213WL12 ,  4F213WL45 ,  4F213WL93

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 光造形方法及びポストキュア装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-056888   出願人：株式会社東芝
• 特開平3-218983
  
• 特開平4-235202
  

審査官引用 (3件)

• 光造形方法及びポストキュア装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-056888   出願人：株式会社東芝
• 特開平3-218983
  
• 特開平4-235202