特許
J-GLOBAL ID:200903024047067245

透明下地層を有する薄膜コーティング

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-572916
公開番号(公開出願番号):特表2005-518970
出願日: 2003年02月28日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
本発明は、透明下地層を有する薄膜コーティングを提供する。例えば、本発明は、透明下地層を備えた低放射率コーティングを提供する。特定の実施形態においては、二酸化ケイ素下地層が使用される。また、透明下地層を有する薄膜コーティングの製造方法も提供される。一実施形態においては、これらのコーティングを製造するために、スパッタ堆積が用いられる。
請求項(抜粋):
低放射率コーティングを備えた基材であって、前記低放射率コーティングが、前記基材から外側に向かって、 (a)100オングストローム以下の厚みで、前記基材上に直接に形成された二酸化ケイ素を含む第1のフィルム層と、 (b)透明誘電物質を含む第2のフィルム層と、 (c)赤外反射物質を含む第3のフィルム層と、 (d)透明誘電物質を含む第4のフィルム層とを含む基材。
IPC (2件):
B32B7/02 ,  C03C17/36
FI (2件):
B32B7/02 103 ,  C03C17/36
Fターム (38件):
4F100AA12C ,  4F100AA12E ,  4F100AA20B ,  4F100AA25B ,  4F100AA25E ,  4F100AA40E ,  4F100AB24D ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100BA25B ,  4F100BA25C ,  4F100EH66B ,  4F100JD10D ,  4F100JG05C ,  4F100JG05E ,  4F100JM02B ,  4F100JN01C ,  4F100JN01E ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4G059AA01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC06 ,  4G059AC16 ,  4G059AC19 ,  4G059DA01 ,  4G059DA02 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA12 ,  4G059EB04 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA14
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 米国特許第4,790,922号明細書
  • 米国特許第4,806,220号明細書
  • 米国特許第3,962,488号明細書
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審査官引用 (2件)

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