特許

J-GLOBAL ID：200903024051482320

パターン測定装置及びパターン測定方法

発明者： 松本 純
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-040858
公開番号（公開出願番号）：特開2007-292732
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】測定対象のラインとスペースがほぼ等間隔に形成されているときに、ラインとスペースを識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。【解決手段】パターン測定装置は、荷電粒子ビームを走査して、試料上に形成されたパターンのラインプロファイルを作成するラインプロファイル作成部と、ラインプロファイルを2次微分して2次微分プロファイルを作成する微分プロファイル作成部と、2次微分プロファイルから得られるパターンのエッジ位置の近傍に出現する2つのピーク位置とピーク値からパターンのエッジが立ち上がりか立下りかを判定するエッジ検出部とを備える。エッジ検出部は、2次微分プロファイルから得られるパターンのエッジ位置の近傍に出現する2つのピーク位置をX1,X2(>X1)としたとき、ピーク位置X1の信号量がピーク位置X2の信号量よりも大きいとき、パターンのエッジは立ち上がると判定する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを走査して、試料上に形成されたパターンのラインプロファイルを作成するラインプロファイル作成部と、 前記ラインプロファイルを2次微分して2次微分プロファイルを作成する微分プロファイル作成部と、 前記2次微分プロファイルから得られる前記パターンのエッジ位置の近傍に出現する2つのピーク位置とピーク値から前記パターンのエッジが立ち上がりか立下りかを判定するエッジ検出部と を備えることを特徴とするパターン測定装置。

IPC (6件)：

G01B 15/00 ,  H01L 21/66 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/22 ,  G06T 1/00 ,  G01N 23/225

FI (6件)：

G01B15/00 B ,  H01L21/66 J ,  H01J37/28 B ,  H01J37/22 502H ,  G06T1/00 305C ,  G01N23/225

Fターム (49件)：

2F067AA16 ,  2F067AA26 ,  2F067AA54 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL14 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR12 ,  2F067RR20 ,  2F067RR21 ,  2F067RR29 ,  2F067RR41 ,  2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA01 ,  5B057BA19 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CC02 ,  5B057CH08 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DA08 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC16 ,  5B057DC36 ,  5C033UU05 ,  5C033UU08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• エッジ検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124184   出願人：株式会社ニコン
• 走査電子顕微鏡を用いたライン・アンド・スペースパターンの測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-435519   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ