特許

J-GLOBAL ID：200903024112573455

ケミカルフィルタ

発明者： 佐藤 克己 ,  高橋 秀人 ,  阪田 総一郎
出願人/特許権者： 高砂熱学工業株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-052427
公開番号（公開出願番号）：特開平9-220425
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】 自身からの発塵がないケミカルフィルタを提供する。【解決手段】 本発明によれば、気流中のガス状不純物を除去する吸着濾材(102)と、その吸着濾材を収納するケーシング(104)とを備えたケミカルフィルタ(100)において、吸着濾材の下流側に、少なくとも前記吸着濾材から発生する微粒子を捕捉できるとともに、ガス状不純物を発生しない素材から成るフィルタ濾材(108)を設置しているので、ケミカルフィルタ自身が発塵源とならない。

請求項（抜粋）：

気流中のガス状不純物を除去する吸着濾材と、その吸着濾材を収納するケーシングとを備えたケミカルフィルタにおいて、前記吸着濾材の下流側に、少なくとも前記吸着濾材から発生する微粒子を捕捉できるとともにガス状不純物を発生しない素材から成るフィルタ濾材を設置したことを特徴とする、ケミカルフィルタ。

IPC (3件)：

B01D 46/30 ,  B01D 39/14 ,  B01D 53/04

FI (3件)：

B01D 46/30 B ,  B01D 39/14 A ,  B01D 53/04 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• エアーフィルタ及びエアーフィルタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-283616   出願人：ニッタ株式会社
• 半導体製造用エアフイルタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-086046   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平3-202146
  
• 特開平3-202146