特許
J-GLOBAL ID：200903024145003034

有機塩素系ガスの分解処理方法及びその装置

発明者：
平山 照康

平山 照康 について

, 
加瀬 隆雄

加瀬 隆雄 について

, 
八巻 淳

八巻 淳 について


出願人/特許権者：
清水建設株式会社

清水建設株式会社 について


代理人 (1件)： 柳田 良徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-169597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007586
出願日： 1998年06月17日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】 浄化処理効率が高く、メンテナンスフリーで経年変化の少ない半永久的な有機塩素系ガスの分解処理方法と分解処理装置及びこれを用いた汚染地下水、土壌の修復方法を提供する。【解決手段】 本発明の有機塩素系ガスの分解処理方法は、光触媒を担持したシート状の繊維活性炭に紫外線光源を対峙させ、繊維活性炭の表面に有機塩素系汚染ガスを導入して分解処理するものであり、分解処理装置は、装置の内面に配備したり、螺旋状もしくは層状にして光触媒を担持したシート状の繊維活性炭とその表面を照射する紫外線光源及び有機塩素系ガスの供給口と排出口から成るので、光触媒粒子を多量に分散配置させると共に、光触媒の近傍に有機塩素系ガスを高濃度に密集させて、有機塩素系ガスの分解反応を効率よく遂行できる。又、本発明の有機塩素系ガスの分解処理方法を用いると、有機塩素系汚染土壌及び汚染地下水の修復方法に有効である。
請求項（抜粋）：
光触媒による有機塩素系ガスの分解処理方法において、光触媒を担持した繊維活性炭に紫外線光源を対峙させ、該繊維活性炭の表面に有機塩素系汚染ガスを導入して分解処理することを特徴とする有機塩素系ガスの分解処理方法。
IPC (4件)：
C07B 35/06 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02
FI (4件)：
C07B 35/06 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J
Fターム (64件)：
2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BD13 ,  2E191BD17 ,  4D048AA11 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048AB10 ,  4D048BA05X ,  4D048BA05Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA41Y ,  4D048BB01 ,  4D048BB03 ,  4D048BB05 ,  4D048BB08 ,  4D048CA03 ,  4D048CC29 ,  4D048CC33 ,  4D048CC34 ,  4D048CC38 ,  4D048CC41 ,  4D048EA01 ,  4D048EA04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB07B ,  4G069BB07C ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC50C ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA19 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EA03X ,  4G069EA03Y ,  4G069EA06 ,  4G069EA13 ,  4G069EA15 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FB30 ,  4G069FB57 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AB99 ,  4H006AC13 ,  4H006AD17 ,  4H006BA10 ,  4H006BA30 ,  4H006BA55 ,  4H006BC52 ,  4H006BD81
引用特許：
審査官引用 (5件)
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